/ DETAILED PARAMETERS
AP系列精密研磨抛光机整机防腐蚀，具有独立的清洗模块，可同时实现机械研磨和化学抛光工艺。
适用于8inch及以下尺寸样片。样片可以是规则或不规则形状。
可实现晶片端面磨抛及特殊角度制备。
标配独立的控制系统，主机所有参数均可在触摸操控系统上进行设定，并可存储200条工艺菜单。
样片背压力范围:0-10公斤，精度2g/cm2。
夹具配备厚度监测装置，精度1um;
摆臂配有独立驱动系统，且摆动速度和摆动幅度可以数控调节。
夹具吸附面型可根据样片工艺要求进行调整。
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