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HM3Y11化学机械研磨抛光机

/ DETAILED PARAMETERS

应用领域：

4/6/8英寸硅基、玻璃基、化合物基晶圆及其表面薄膜层化学机械抛光，可对GaN，SiO2，SiN等介质层薄膜，

Sn、Cu等金属，PSPI，光刻胶，ITO等化学机械抛光和双面刷洗。

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