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AP系列磨抛机
  • AP系列精密研磨抛光机整机采用落地式全密闭防腐一体化柜体结构,加工区域设有上掀式透明防护门并搭载安全联锁,开门自动停机;封闭腔体预留排风接口,可外接排风收集抛光气溶胶;舱内集成防泄漏废液收集槽,有效阻挡浆料飞溅、雾气外溢,保护内部机电组件。
  • 工位配置:2 套独立自动气动驱动头(Air Jig),可同步 / 异步加工。
  • 适用于8inch及以下尺寸样片。样片可以是规则或不规则形状。
  • HMI 磨抛机智能控制系统:多工序顺序自动执行,工序结束自动平滑过渡至下一工序,可独立设置每一步转速、压力、时长、滴液参数,工艺程序可保存调用。
  • 夹具下压背压力采用载荷传感器闭环控制,具备自动载荷校准功能; 夹具载荷区间 2~40kg,背压力稳态控制精度 ±0.5kg,重复精度≤±0.5kg。
  • 4 组独立 3.8L 浆料储罐; 计量蠕动泵供液,单路流量调节范围 5~100 mL/min; 可实现多工序不同研磨 / 抛光浆料自动切换供给。

详细参数

/ DETAILED PARAMETERS

应用领域:

1.半导体衬底(减薄、背减薄、EPI级别衬底制备)

2.半导体器件(射频器件、功率器件、滤波器、光通讯器件、探测器、激光器)

3.MEMS(高温压力传感器、光学传感器、陀螺仪、加速度计)

4.封装(TSV、SIP、Flip Chip、Bumping、Fan-out)


应用材料:

1.III-V材料——GaAs、InP

2.红外材料——CZT、MCT

3.前沿材料——GaSb、InSb

4.光电材料——LiNbO₃、LiTaO₃

5.三代半材料——SiC、GaN

6.金属材料——Cu、Au、Al、Ge、Mo


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