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HS精密磨抛机
  • 工位:标配1个工位,可选配2个或3个工位。
  • 样片尺寸:3” x 1/2/3; 4” x 1/2/3; 6” x 1。
  • 异形片/端面/角度磨抛:斜角平面以及特定角度抛光,如8°角等。
  • 磨抛厚度检测:厚度检测精度2um,可选配1um。
  • 转速:夹具驱动 0-500rpm;磨抛盘 0-200rpm。
  • HMI 磨抛机智能控制系统:集成磨抛盘运行动态可视化仿真界面,实时同步显示磨盘转速、转向、加压状态等工艺参数。
  • 工艺步骤自动控制:多工序顺序自动执行,5 段工艺依次启动,工序结束自动平滑过渡至下一工序,可独立设置每一步转速、压力、时长、滴液参数,工艺程序可保存调用。

详细参数

/ DETAILED PARAMETERS

应用领域:

1.半导体衬底(减薄、背减薄、EPI级别衬底制备)

2.半导体器件(射频器件、功率器件、滤波器、光通讯器件、探测器、激光器)

3.MEMS(高温压力传感器、光学传感器、陀螺仪、加速度计)

4.封装(TSV、SIP、Flip Chip、Bumping、Fan-out)


应用材料:

1.III-V材料——GaAs、InP

2.红外材料——CZT、MCT

3.前沿材料——GaSb、InSb

4.光电材料——LiNbO₃、LiTaO₃

5.三代半材料——SiC、GaN

6.金属材料——Cu、Au、Al、Ge、Mo




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