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纯化学抛光机
  • HCPI系列化学抛光机台组合了物理和化学工艺方法的优点,物理工艺方法进行表面平整度的高级控制,而化学工艺提供更平稳精确的材料去除,主要是对材料表面和次表面的还原。
  • 在HSM机台序列中,使用CPI做为工艺最终步骤可以非常有效的实现样品的最佳几何尺寸控制和无损伤表面抛光。使用GNAD等研磨抛光系统来减薄抛光样品,最后在CP3000上进行抛光,来去除残留的表面损伤痕迹,以此来满足极其严格的工艺要求。
  • 电源: 220V/50Hz
  • 重量:42公斤(带抛光料桶,有齿轮板)
  • 主单元:400x435x260mm
  • 远程控制单元:500x245x195mm
  • 抛光盘直径:406mm
  • 最大样品尺寸:1个直径200mm/(8"),或三个直径114mm/(4.5")
  • 抛光盘转速:0-70转/分钟(连续可调)

详细参数

/ DETAILED PARAMETERS

应用领域:

1.半导体衬底(减薄、背减薄、EPI级别衬底制备)

2.半导体器件(射频器件、功率器件、滤波器、光通讯器件、探测器、激光器)

3.MEMS(高温压力传感器、光学传感器、陀螺仪、加速度计)

4.封装(TSV、SIP、Flip Chip、Bumping、Fan-out)


应用材料:

1.III-V材料——GaAs、InP

2.红外材料——CZT、MCT

3.前沿材料——GaSb、InSb

4.光电材料——LiNbO₃、LiTaO₃

5.三代半材料——SiC、GaN

6.金属材料——Cu、Au、Al、Ge、Mo


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